AICHE Symposium Series Plasma chenical processing

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor Principal: Benenson, David M. (ed.)
Autor Corporativo: American Chemical of Chemical Engineers
Formato: Libro
Lenguaje:Inglés
Publicado: New York : American Chemical of Chemical Engineers , 1979
Series:AICHE Symposium Series
Materias:

Biblioteca Facultad de Ingeniería Química

Detalle de Existencias desde Biblioteca Facultad de Ingeniería Química
Signatura Topogafica: Hemeroteca Orden 8 ; 75(186) ; 1979
Ejemplar 91071
Tipo de Prestamo: Prestamo de Consulta
Disponibilidad: Disponible



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