Silicio policristalino para dispositivos fotovoltaicos.
Se exponen los resultados obtenidos durante la investigación desarrollada sobre la cristalización de películas delgadas de silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H) con el objetivo de obtener capas de silicio policristalino aptas para la aplicación a dispositivos fotovoltaicos. se investigaron diferentes...
Guardado en:
| Autor Principal: | |
|---|---|
| Otros Autores: | , |
| Formato: | Tesis Libro |
| Lenguaje: | Español |
| Materias: |
| Sumario: | Se exponen los resultados obtenidos durante la investigación desarrollada sobre la cristalización de películas delgadas de silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H) con el objetivo de obtener capas de silicio policristalino aptas para la aplicación a dispositivos fotovoltaicos. se investigaron diferentes aspectos de la cristalización en fase sólida y de la critalización inducida por níquel de a-Si:H intrínseco y dopado, depositado a altas velocidades por deposición química desde la fase vapor asistida por plasma, con la finalidad de mejorar la calidad cristalina del material resultante. Durante la investigación se buscó optimizar el proceso de critalización en función de obtener el mayor tamaño de grano posible. |
|---|---|
| descripción de la copia: | Lugar de realización: Grupo de Semiconductores y Energías no Convencionales. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química |
| Descripción Física: | 155 h. : il. ; 30 cm. Disponible también en Biblioteca Virtual de la UNL |
| Bibliografía: | Bibliografía: h. 147 - 154 |